分類１	分類２	用途例	濃度例	センサ	コントロールユニット
クリーンガス	低濃度酸素	高純度ガス、窒素ＰＳＡ	1ppmO2〜	TB-IIF、TB-IIP	C-28C、C-48
		窒素ＰＳＡ	10ppmO2〜	CG-SM	−−−
			1000ppmO2〜	CG-TM、U S	−−−
	空　気	酸欠計	0〜25%O2	FG-IIS	−−−
		病院用空気		FG-IIU-100R	IMDデジタルメーター
	高濃度酸素	酸素ＰＳＡ	0〜95%O2	FG-IIUX
		酸素濃縮器	0〜100%O2	U S	−−−
	酸素以外	溶接シールドガス	−−−	MODEL6900、7000
		希ガス		U S
		その他
エレクトロニクス	半導体製造設備	拡散炉、ＣＶＤ 等	1ppmO2〜	TB-IIF、TB-IIP	C-28C、C-48
	ハンダ付け装置	窒素リフロー炉、ディップ炉	10ppmO2〜		C-28C、C-101
熱処理	雰囲気炉	真空炉	1〜10^-30atmO2	TB-IIF、TB-IIV	C-48
	直火炉	CO+H2雰囲気	-5〜5%O2	TB-IIG	C-28C
		還元雰囲気	1〜10^-30atmO2 0〜1500mV	DG-R	C-48
				P O	P-28
		プレミックスガス	-10〜10%O2	C M	C-48
燃焼ガス	鉄　鋼	微粉炭吹き込み/調湿	0〜10%O2	TB-IIG	C-28C、C-48
		コークス炉	0〜5%O2
		焼結炉
		熱風炉
		連続鋳造	0〜2%O2
		均熱炉、加熱炉、鍛造炉	0〜5%O2
		ＣＡＬ、ＣＧＬ（直火）	-5〜5%O2		C-28C
		ＣＡＬ、ＣＧＬ（ラジアントチューブ）	0〜10%O2
	非　鉄	溶解炉	0〜5%O2		C-28C、C-48
		加熱炉、焼鈍炉
	窯　業	ガラス溶解炉、保持炉
		セラミック焼成炉（直火）	-5〜5%O2
		セラミック焼成炉（電気）	0〜1000mV	TB-IIF	C-28C、C-48
	環　境	都市ゴミ焼却炉	0〜25%O2	TB-IIG	C-28C
		汚泥焼却炉
		ガス化溶融炉
		ＲＤＦ（高温水分計）	0〜50%H2O
	舶　用	ＩＧＳ、ＩＧＧ	0〜25%O2	TB-IIF
	ユーティリティ	ボイラ	0〜10%O2	TB-IIG	C-28C、C-48
その他	真空雰囲気測定	グローブボックス、真空チャンバー	0〜1000ppmO2	TB-IIV	C-28C
	高温水分測定	乾燥炉	0〜50%H2O	TB-IIG
	燃料電池	アノード、カソード	1〜10^-30atmO2	TB-IIF	C-48